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    紫外臭氧清洗機

    全新升級的第五代機型,操作和維護更簡便,適用于科研實驗和小批量生產,擁有工業級別的清洗效率和效果,三種照射尺寸: 

    150*150,200*200,250*250mm

    大尺寸的清洗腔可滿足體積較大產品進行表面處理,靈活調節的升降托盤,方便操作的箱式設計,適合科研實驗和小批量生產,兩種照射尺寸:

    150*150,200*200mm

    滿足大尺寸基片處理需求,出色的工業級清洗效果,標準照射尺寸有:350*350,400*400,450*450,500*500,600*600mm等,更大照射尺寸或硬件配置可定制化生產。
    適合產能或清洗效率要求較高的工業客戶,可根據客戶產品尺寸和產能要求出具客戶化定制方案,擁有豐富且靈活的硬件搭配方式。

    應用領域

    用于處理ITO,FTO,光學玻璃,半導體,硅片,金屬,陶瓷,聚合物等基片表面的有機物,可以提高基片表面附著力或者改善表面親水性,廣泛應用在鈣礦鈦電池,晶圓制造,光通訊,OLED等行業。

    清洗原理

    VUV低壓紫外汞燈能同時發射波長254nm和185nm的紫外光,這兩種波長的光子能量可以直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵,使有機物分子活化,分解成離子、游離態原子、受激分子等。與此同時,185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣(O2)分解成臭氧(O3);而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧(O),這個光敏氧化反應過程是連續進行的,在這兩種短波紫外光的照射下,臭氧會不斷的生成和分解,活性氧原子就會不斷的生成,而且越來越多,由于活性氧原子(O)有強烈的氧化作用,與活化了的有機物(即碳氫化合物)分子發生氧化反應,生成揮發性氣體(如CO2,CO,H2O,NO等)逸出物體表面,從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機污染物。

    清洗效果

    玻璃片在初始狀態,超聲波或溶液法清洗,UV清洗后表面水滴狀態

    UV清洗后

    超聲波或溶液清洗后

    基片初始狀態

    參考客戶

    寧德時代,比亞迪,京東方,晶科能源,東方日升,福晶科技,水晶光電,蘇州協鑫,蜂巢能源,纖納光電,大族激光,國家納米中心,中科院長春光機所,中科院半導體所,中科院長春應化所,中科院蘇州納米所,中科院寧波材料所,中科院上海高等研究院,中科院深圳先進技術研究院,清華大學,北京大學,復旦大學,中國科學技術大學,浙江大學,同濟大學,中國人民大學,南京大學,武漢大學,哈爾濱工業大學,西安交通大學,吉林大學,中山大學,華南理工大學,東南大學,電子科技大學,哈爾濱工業大學,北京大學深圳研究生院,清華大學深圳研究生院,哈工大深圳研究生院,香港中文大學(深圳),澳門大學,吉林大學,中南大學,西北工業大學,暨南大學,廈門大學,山東大學,天津大學,大連理工大學,華南師范大學,湖南大學,西南大學,云南大學,北京科技大學,北京化工大學,北京工業大學,北京理工大學,鄭州大學,東北大學,東北師范大學,上海大學,南方科技大學,深圳大學,廣東工業大學,廣州大學,南京郵電大學,廣西大學等

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